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山东大学等离子体增强化学气相沉积系统(第三次)单一来源公示

2024-01-26
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  • 2024年01月26日
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正文内容

·公告摘要:

***********招标公司受业主*******委托,于2024年01月26日在招标网发布山东大学等离子体增强化学气相沉积系统(第三次)单一来源公示。各有关单位请于2024年02月02日前与公告中联系人联系,及时参与投标等相关工作,以免错失商业机会。

*** 部分为隐藏内容,查看详细信息请

·部分信息内容如下:

山东大学等离子体增强化学气相沉积系统(第三次)单一来源公示
公告概要:公告信息:采购项目名称**大学等离子体增强化学气相沉积系统品目
货物/设备/电工、电子生产设备/其他电工、电子生产设备
采购单位**大学行政区域***公告时间****年**月**日 **:**开标时间****年**月**日 **:**预算金额¥***.******万元(人民币)联系人及联系方式:项目联系人田老师项目联系电话****-********采购单位**大学采购单位地址**省***山大南路**号采购单位联系方式鲁老师 ****-********代理机构名称详见公告正文代理机构地址详见公告正文代理机构联系方式详见公告正文
  根据《中华人民**国政府采购法》等有关规定,现对**大学等离子体增强化学气相沉积系统进行其他招标,欢迎合格的供应商前来投标。
项目名称:**大学等离子体增强化学气相沉积系统
项目编号:SDJXHD********-Z***
项目联系方式:
项目联系人:田老师
项目联系电话:****-********
采购单位联系方式:
采购单位:**大学
采购单位地址:**省***山大南路**号
采购单位联系方式:鲁老师 ****-********
一、采购项目内容
拟购买的等离子体增强化学气相沉积系统适用于在低温下在晶圆上沉积钝化层同时实现无损伤的沉积。该设备能够制备高致密度的保护膜作为半导体器件表面保护层,可实现对功率芯片与外界环境的隔绝,包含氧气、水蒸气等,是实现高可靠性功率芯片的重要因素,是衔接芯片制备和下游封装的关键环节。
经用户调研,拟购买SPTS公司的设备能够在***℃以下沉积SiO*薄膜,同时通过沉积阶段引入H*和沉积后H*等离子体处理,分别能够提高SiO*薄膜的致密度和抑制水蒸气在SiO*表面的吸附,对降低漏电流、提高击穿电压具有显著作用,实现***V·cm-*的耐压指标,调研的其他企业都难以实现上述指标。另一方面,拟购设备具有独特的托盘温控设计,为了实现较低温度下托盘的温度均一性,用热空气代替传统的电阻丝加热方式,避免温度过冲的风险,以实现高指标大面积介质层薄膜的沉积。SPTS Technology Ltd.公司在国内的指定**供应商为*************。因此采用单一来源方式采购。
拟定唯一供应商名称:*************
二、开标时间:****年**月**日 **:**
三、其它补充事宜
获取采购文件:登录**大学采购网(http://www.cgw.sdu.edu.cn/)进行供应商注册,注册完成我中心审核通过后,再次登录系统在线提交获取采购文件申请,审核成功后自助下载采购文件。
投标流程:
本项目采用电子招投标方式采购。投标供应商必须按相关程序办理数字证书和安装投标文件工具后方可上传递交投标响应文件。详细操作说明见**大学采购网(www.cgw.sdu.edu.cn)--资料下载--**大学电子投标指南文件。
发布公告媒介:本次采购公告在中国政府采购网和**大学采购网上发布。
公告时间:自本公告发布之日起五个工作日。
四、预算金额:
预算金额:***.****** 万元(人民币)
技术条款 .docx
文件下载
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